2025 年全國電子顯微學(xué)學(xué)術(shù)年會于 9 月 26 日 - 30 日（26 日報到，30 日離會）在武漢市國際會議中心召開。在砥礪前行卌五秋，探微求真為國謀之際，我們迎來了中國電子顯微鏡學(xué)會（對外）成立 45 周年慶典，本屆年會為慶賀專場，顯微學(xué)人以自己的學(xué)識與奉獻解析微觀世界之謎，為科技強國而勇于擔(dān)當(dāng)，不斷進取。

本屆年會的主題是：顯微逐夢卌五載，踔厲奮發(fā)報神州。 本屆年會按材料科學(xué)與生命科學(xué)學(xué)科設(shè)立十五個專題分會場：

1. 顯微學(xué)理論、儀器方法與技術(shù)；

2. 原位電子顯微學(xué)表征； 

3. 功能材料的微結(jié)構(gòu)表征；

4. 結(jié)構(gòu)材料及缺陷、界面、表面，相變與擴散； 

5. 先進顯微分析技術(shù)在工業(yè)材料中的應(yīng)用；

6. 掃描探針顯微學(xué)表征（STM/AFM 等）；

7. 電子衍射及電子全息（含 SEM、EBSD 和 TEM）；

8. 聚焦離子束（FIB）在材料科學(xué)中的應(yīng)用；

9. 低溫電子顯微學(xué)表征； 

10. 生物醫(yī)學(xué)電鏡技術(shù)發(fā)展與應(yīng)用； 

11. 顯微學(xué)在農(nóng)林及生物科學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用（超分辨顯微鏡，激光共聚焦顯微鏡等）； 

12. 農(nóng)林電子顯微學(xué)研究與應(yīng)用； 

13. 先進材料顯微表征與前沿創(chuàng)新； 

14. 顯微科學(xué)儀器與先進材料； 

15. 顯微學(xué)平臺智能化升級與開放共享。

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復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司（以下簡稱“復(fù)納科技"）受邀參加此次會議，并且在新品發(fā)布之際，將攜飛納大倉室自動化掃描電鏡 Phenom XL 現(xiàn)場展出，歡迎各位蒞臨 5 樓【5-17】復(fù)納科技展臺測試體驗和交流，共同探討最新材料表征和制備技術(shù)！

•會議時間

2025 年 9 月 26 日 - 29 日（26日報到）

•會議地點

武漢國際會展中心

復(fù)納科技展位號5-17

現(xiàn)場互動

卡皮巴拉，“蒜鳥"等你來拿哦～ 

9 月 26 日 - 29 日會議期間

關(guān)注復(fù)納科技 / 飛納電鏡公眾號

回復(fù)"抽（chou）獎"

填寫問卷，即可參與互動!

關(guān)于復(fù)納科技

復(fù)納科技成立于 2012 年，專注引進歐美先進、穩(wěn)定的科學(xué)分析儀器與制造設(shè)備，助力中國科研創(chuàng)新與工業(yè)升級。公司已服務(wù) 2,500+ 家中國用戶，并與近 10 家國際制造商建立了長期穩(wěn)定的合作關(guān)系，共同為中國用戶提供高品質(zhì)產(chǎn)品與專業(yè)服務(wù)。主要業(yè)務(wù)線如下：

• 復(fù)納顯微成像：荷蘭 Phenom 臺式掃描電鏡、比利時 NEOSCAN 高分辨臺式顯微 CT、匈牙利 Technoorg Linda 離子研磨儀

• 透射電鏡原位分析：荷蘭 DENSsolutions 原位透射樣品桿、匈牙利 Technoorg Linda TEM 氬離子精修儀

• 復(fù)納清潔度檢測：荷蘭 Phenom ParticleX 清潔度檢測系統(tǒng)（鋰電、汽車、光學(xué)模組、鋼鐵夾雜物）；荷蘭 Fastmicro 可視化顆粒檢測系統(tǒng)

• 復(fù)納納米制造：美國 Forge Nano 粉末原子層沉積系統(tǒng)、荷蘭 VSParticle 納米氣溶膠沉積系統(tǒng)

• 復(fù)納半導(dǎo)體： LabSEMI 半導(dǎo)體軟管

• 復(fù)納生命科學(xué)：匈牙利 Femtonics 雙光子顯微鏡

PART.01 Phenom 飛納臺式掃描電鏡

飛納作為全quanqiu球領(lǐng)ling（）xian先的桌面掃描電子顯微鏡，操作簡單，成像速度快且質(zhì)量高，受到了眾多研究者的青睞。

1.新品發(fā)布——Phenom XL G3 大倉室自動化掃描電鏡

最新發(fā)布的大倉室自動化掃描電鏡 Phenom XL G3，憑借其 3000 小時的長壽命 CeB 晶體燈絲、AI 智能自動化功能，開啟了掃描電鏡的新紀(jì)元！無論是質(zhì)量控制、研發(fā)測試，還是精準(zhǔn)分析，Phenom XL G3 都將為您的工作帶來提升。

• 穩(wěn)定可靠: 80 年頂尖技術(shù)傳承。

• 采用 CeB6晶體燈絲: 3000 h 超長使用壽命，平均 5 年換燈絲。

• 面向工業(yè) 4.0 的自動化與 AI 智能掃描電鏡：開放編程接口，打造定制化的“黑燈實驗室"檢測流程，支持 Maps 地圖式多模態(tài)、多維度自動拼圖及關(guān)聯(lián)。

• 不挑安裝環(huán)境：內(nèi)置專（zhuanli）利減震系統(tǒng)，可直接放置于生產(chǎn)車間、高樓層 QC 實驗室等。

• 原廠集成能譜 EDS：從電子光學(xué)設(shè)置、圖像采集到能譜分析和面分布，都在同一個統(tǒng)一、直觀的界面中完成。

• 低電壓成像功能：對于不導(dǎo)電、導(dǎo)電性差、以及電子束敏感樣品，不噴金，仍具有成像能力。

2.分辨率最高——Phenom 臺式場發(fā)射掃描電鏡

飛納臺式場發(fā)射掃描電鏡，完（wanquan）全防震，在臺式機身上獲得接近大型場發(fā)射的性能。優(yōu)秀的低電壓成像能力，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，較大程度還原樣品的真實形貌。延續(xù)電鏡能譜一體化設(shè)計，升級的快速面掃可以即時顯示所選元素的分布情況，實時能譜分析功能大幅提升了檢測效率。

型號推薦

Pharos STEM 掃描透射電鏡

• 分辨率：優(yōu)于 1nm

• 成像模式：BF、DF、HAADF

Pharos G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

• 分辨率：優(yōu)于 1.5 nm

• 放大倍數(shù)：2,000,000 X

3.AFM-SEM 原子力掃描電鏡

AFM-in-SEM 技術(shù)的出現(xiàn)將原子力顯微鏡（AFM）與掃描電子顯微鏡（SEM）相結(jié)合，實現(xiàn)了多模態(tài)相關(guān)分析。它不僅能夠精確地將探針導(dǎo)航至感興趣的區(qū)域（ROI），還能對電學(xué)性質(zhì)進行可靠的表征。

型號推薦（點擊圖片即可查看詳細(xì)信息）

Phenom AFM-SEM

原子力掃描電鏡一體機。結(jié)合了飛納臺式掃描電鏡和原子力顯微鏡的優(yōu)勢，實現(xiàn)了在同一系統(tǒng)中對樣品進行多模態(tài)關(guān)聯(lián)分析。

LiteScope AFM-SEM

同步聯(lián)用技術(shù)通用款兼容賽默飛世爾、TESCAN、蔡司、日立、JEOL 等主流品牌 SEM 系統(tǒng)，其他品牌電鏡亦可定制。

PART.02 Technoorg Linda 樣品制備

Technoorg Linda 系列離子研磨儀、離子減薄儀和離子精修儀，是 SEM / TEM / XTEM / FIB 樣品制備的有力工具。該系列產(chǎn)品采用離子束技術(shù)，可對樣品進行快速研磨、表面精細(xì)加工以及最終拋光等。離子研磨系統(tǒng)是一種高精度的表面處理技術(shù)，主要用于材料科學(xué)和半導(dǎo)體行業(yè)。目前絕大多數(shù)離子研磨系統(tǒng)都是采用傳統(tǒng)的觸控屏或機械鍵盤的方式進行操作。而最新的 Technoorg Linda 產(chǎn)品 SEMPREP SMART 創(chuàng)新地采用了智能 AI 操作模式，是一臺可以對話的離子研磨系統(tǒng)！

PART.03DENSsolutions TEM 原位樣品桿 

DENSsolutions 產(chǎn)品可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激，捕捉 TEM 樣品在真實環(huán)境下的動態(tài)現(xiàn)象。目前提供的四種原位實驗方案：Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Arctic TEM 原位低溫冷凍熱電方案、Climate Infinity TEM 原位氣相加熱加電方案和 Stream Infinity TEM 原位液相加熱加電方案，為各學(xué)科領(lǐng)域在相關(guān)條件下研究各種材料和工藝開辟了可能性。

PART.04 分辨率最高的臺式顯微 CT

NEOSCAN 臺式顯微 CT 掃描系統(tǒng)對場地要求少、免維護、具備高空間分辨率。能夠真實再現(xiàn)材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)，在材料研究、失效分析、工藝優(yōu)化中已經(jīng)成為不可替代的測試手段。

PART.05 Femtonics 雙光子顯微鏡

“費米光學(xué)"雙光子顯微成像產(chǎn)品來自于匈牙利布達佩斯，致力于為全球頂尖研究人員提供先進的雙光子成像系統(tǒng)。Atlas 聲光三維雙光子顯微鏡采用聲光技術(shù)，擁有遠(yuǎn)高于市面產(chǎn)品的掃描速度。3D 隨機訪問點掃描速度高達 100 kHz，高速任意幀掃描速度為 40 fps@510×510 px，在目標(biāo)聚焦視場時高達 3000 fps。其已創(chuàng)下 20 多項世界紀(jì)錄，并擁有 44 項國際專（zhuan）利，技術(shù)成果出版物超 200 份，大部分成果發(fā)表于《Nature》《Science》《Cell》《Neuron》等頂級期刊。

PART.06 Forge Nano 粉末原子層沉積

Forge Nano 采用原子層沉積技術(shù)（ALD），可提供從包覆研發(fā)到工業(yè)生產(chǎn)的全套解決方案，包括：流化床技術(shù)、旋轉(zhuǎn)床、振動床等。實現(xiàn)從毫克到噸級的粉末處理量，您可以輕松實現(xiàn)從實驗室到生產(chǎn)的產(chǎn)品開發(fā)計劃。ALD 可應(yīng)用于多種電極、電解質(zhì)粉末材料，具有延長電池周期壽命、減少氣體生成、減少鋰不可逆損耗和高電壓工作穩(wěn)定性等優(yōu)勢。

PART.07 VSParticle 納米沉積系統(tǒng)

VSP-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)具有獨特性能的無機納米結(jié)構(gòu)材料的打印直寫。印刷涂層的顆粒由 VSP-G1 納米粒子發(fā)生器產(chǎn)生，經(jīng)火花燒蝕產(chǎn)生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在 20nm 以下，且不含表面活性劑或任何其他有機添加物質(zhì)。納米粒子生產(chǎn)和印刷沉積的整個過程是自動化的，不需要進行后續(xù)有機成分的熱處理去除。